余政儲(chǔ)出【2021】20號(hào)地塊項(xiàng)目施工工程
本工程位于杭州市余杭區(qū)未來(lái)科技城，北至永興路，南至愛(ài)橙街，東至思凱路，西至景興路。項(xiàng)目總用地面積約24743m2；總建筑面積約209212m2，其中地上建筑面積約143264 m2，地下建筑面積約65948 m2。擬建物主要由2幢32F（最大高度規(guī)劃H=150.0m）的辦公樓、7F裙樓（高度H=32.2m）等附屬建筑組成，場(chǎng)地正負(fù)0.000為5.20m。設(shè)三層整體地下室，最大開(kāi)挖深度約16m，項(xiàng)目工程造價(jià)為5377萬(wàn)元。工程樁采用鉆孔灌注樁，Φ800鉆孔樁共1389根；圍護(hù)樁采用鉆孔灌注樁及水泥攪拌樁，其中Φ1000鉆孔樁共209根，Φ1100鉆孔樁共175根、Φ800立柱樁共233根，Φ850五軸水泥攪拌樁共255幅。開(kāi)挖深度為16m。
